TREE NEWS 报道， ASML及其光学合作伙伴蔡司（Carl Zeiss）的工程师在一篇经同行评审的论文中表示，作为ASML最先进芯片制造设备的继任者，新一代设备预计将在约10年内问世。论文称，这款被命名为“Hyper NA”的设备将在大量复用两家公司现有技术的同时，实现更精细的电路图案化，但仍面临诸多挑战。ASML已开始研发该设备，但尚未承诺投入生产。
ASML与蔡司：下一代设备“Hyper NA”或10年内就绪
AI 解读
这一表态的意义在于，光刻设备的技术路线图被公开拉长到十年尺度，意味着最先进制程的推进节奏更依赖少数供应商的长期研发承诺，而非短期资本开支。受影响的首先是依赖ASML设备规划产能的晶圆厂，以及围绕蔡司光学构建的供应链。值得观察的是，论文承认的诸多挑战能否在量产前收敛，以及ASML何时从研发转向正式的生产承诺。
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