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瑞银：中国十年内难以匹敌ASML EUV，DUV量产或需2-5年

2026年9月2日 09:20 SGT · 3天前 · 2

TREE NEWS 报道， 瑞银分析师认为，中国在未来十年内将难以开发出能与ASML相媲美的极紫外（EUV）光刻设备，而深紫外（DUV）工具可能在两到五年内实现量产。这凸显了半导体制造领域持续存在的技术差距。

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