TREE NEWS 소식: ASML과 TSMC는 High NA EUV 리소그래피의 가치를 극대화하기 위해 12인치 포토마스크 전환을 추진하는 공동 업계 이니셔티브를 발표했습니다. 이 이니셔티브는 2031년까지 12인치 포토마스크 파일럿 생산 라인을 구축하고 2033년까지 첨단 노드용 리소그래피 준비를 완료하는 것을 목표로 합니다. 여러 High NA EUV 도입 기업과 주요 공급업체가 참여 의사를 밝혔습니다.
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