ASML、TSMCが12インチフォトマスク移行のイニシアチブを開始

TREE NEWS 情報： ASMLとTSMCは、High NA EUVリソグラフィの価値を最大化するため、12インチフォトマスクへの移行を推進する共同業界イニシアチブを発表しました。このイニシアチブは、2031年までに12インチフォトマスクのパイロット生産ラインを確立し、2033年までに先進ノード向けのリソグラフィ準備を完了することを目指しています。複数のHigh NA EUV採用企業や主要サプライヤーが参加意向を示しています。