Enterで検索 · ESCで閉じる

米国株

清溢光電子会社、高級フォトマスク工場に最大15億元を投資へ

清溢光電の子会社である佛山清溢微電子は、最大15億元を投資し、仏山市南海区に第三期の高級半導体フォトマスク生産拠点を建設する計画だ。同施設では28nm~14nmプロセスノード向けのフォトマスクを生産し、着工は2026年12月、工期は36か月を予定している。資金は子会社の自己資金または自己調達資金から拠出され、株式募集による調達資金は使用しない。

原文

シェア

関連ニュース

TREE NEWS シェアカード
上の画像を長押し → 写真に保存 / シェア
取材依頼 ご意見